Materials Science in Semiconductor Processingに論文が掲載されました。

CaGe2の近接蒸着とGeH(層状物質、高移動度半導体)ヘのトポケミカル変換に関する論文が、
Materials Science in Semiconductor Processingに掲載されました。
名古屋大学の黒澤先生との共同研究の成果です。

Kosuke O.Hara, Shin Kunieda, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Mai Itoh, and Masashi Kurosawa
Close-spaced evaporation of CaGe2 films for scalable GeH film formation
Materials Science in Semiconductor Processing 132, 105928 (2021)

https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1369800121002754