Selected as a highlighted presentation / 注目講演・プレスリリース

The presentation by Ryota Takagaki, a first-year master’s student, was selected
as a “Highlighted Presentation” and published in a press release.
The presentation will be given at the 84th Autumn Meeting of the Japan Society of
Applied Physics (JSAP) in Kumamoto, Japan, September 19-23.

Formation of SiH from CaSi₂ films fabricated by close-spaced evaporation
R. Takagaki¹, K. Arimoto¹, J. Yamanaka¹, M. Kurosawa², K. O. Hara¹
1 Univ. of Yamanashi, 2 Nagoya Univ.
https://meeting.jsap.or.jp/highlighted

修士課程１年生の高垣僚太君が筆頭著者の研究発表が、
「注目講演」として取り上げられ、プレスリリースされました。
9月19日～23日に熊本で開催される
第84会応用物理学会秋季学術講演会で発表します。

近接蒸着法により成膜した CaSi₂の SiH への変換
高垣 僚太¹, 有元 圭介¹, 山中 淳二¹, 黒澤 昌志², 原 康祐¹
1山梨大クリスタル研, 2名大院工
https://meeting.jsap.or.jp/highlighted