Materials Science in Semiconductor Processingに論文が掲載されました。

2020年03月09日

BaSi2の新しい成膜法「近接蒸着法」に関する論文が、
Materials Science in Semiconductor Processingに掲載されました。

Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa, Junji Yamanaka, Noritaka Usami, and Keisuke Arimoto
Reactive deposition growth of highly (001)-oriented BaSi2 films by close-spaced evaporation
Materials Science in Semiconductor Processing 113, 105044 (2020)

https://authors.elsevier.com/a/1ahLC4tTDnXe%7E8