Materials Science in Semiconductor Processingに論文が掲載されました。
2020年03月09日
News
BaSi2の新しい成膜法「近接蒸着法」に関する論文が、
Materials Science in Semiconductor Processingに掲載されました。
Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa, Junji Yamanaka, Noritaka Usami, and Keisuke Arimoto
Reactive deposition growth of highly (001)-oriented BaSi2 films by close-spaced evaporation
Materials Science in Semiconductor Processing 113, 105044 (2020)
